近日，繼 2025年9月啟動飛行時間二次離子質譜儀（TOF-SIMS）國產化產線后，雪迪龍再傳捷報！雪迪龍飛行時間二次離子質譜儀成功中標某高校質譜采購項目，用于肽及蛋白質水解復雜產物表面成分分析。此次中標不僅是市場對雪迪龍硬核技術實力的高度認可，更標志著公司在高端科學儀器布局、核心技術自主可控的征程上邁出堅實一步，對保障關鍵領域供應鏈安全、推動國產儀器自主創新具有重要意義。
TOF-SIMS作為半導體、生命科學等關鍵領域的核心材料表面分析工具，因技術復雜度高、研發周期長、投入強度大，長期被少數跨國企業壟斷，是高精尖科學儀器核心產品之一，公司后期會持續進行技術創新，產學研協同，推動設備性能升級與技術自主可控，全面對標國際先進水平，為國產儀器突破注入強勁動力。
什么是飛行時間二次離子質譜
飛行時間二次離子質譜（TOF-SIMS）是將飛行時間檢測技術與二次離子質譜技術相結合的新型高端表面分析技術。該技術兼具高分辨率、高靈敏度、精確質量測定等核心優勢，已成為高端技術領域的關鍵分析手段，憑借質譜分析、二維成像、深度剖析三大核心功能，廣泛應用于醫學、細胞學、地質礦物學、微電子、材料化學、納米科學、生命科學等多個前沿領域。
其核心工作原理如下：離子源發射的離子束作為一次離子源，經一次離子光學系統聚焦與傳輸后，精準轟擊樣品表面；樣品表面受濺射后產生二次離子，系統對二次離子進行提取與聚焦，隨后送入離子飛行系統；在飛行系統中，不同質荷比（m/z）的二次離子因飛行速度差異實現分離，通過對分離后的離子進行檢測，即可完成樣品相關特性分析。
TOF-SIMS通過整合二次離子質譜的成分分析能力與飛行時間器的分離優勢，顯著提升了樣品元素成分及分布檢測的準確性。該技術兼具高橫向/縱向分辨率與高質譜靈敏度，可實現元素、同位素、分子等多維度信息的精準分析。這一獨特優勢使其成為表面分析領域的主流技術，能夠提供能量色散X射線光譜（EDX）、俄歇電子能譜（AES）、X射線光電子能譜（XPS）等傳統技術無法覆蓋的專屬元素信息，為前沿科研與工業檢測提供核心技術支撐。
