2025年7月17日，“質析毫微・譜繪萬象”半導體痕量成分檢測技術交流會在中國科學院上海應用物理研究所學術交流中心隆重舉行。本次會議由中國物理學會質譜分會、北京雪迪龍科技股份有限公司聯合主辦，中國科學院上海應用物理研究所、分析測試百科網、中國儀器儀表學會分析儀器分會質譜儀器專家組協辦，共同聚焦半導體檢測技術的前沿動態與國產化發展之路。
開幕致辭
中國物理學會質譜分會理事長方向在致辭中強調，質譜技術在我國材料、半導體以及生命科學等諸多領域都具有極為重要的意義，而近年來質譜技術的國產化替代和突破已成為各界關注的焦點。方向提到，我國在推動質譜技術國產化方面已取得重要進展，得到了國家的大力支持，眾多企業家懷著責任感和使命感，抓住市場機遇，推動國產質譜技術的發展。
北京雪迪龍科技股份有限公司董事長敖小強表示，此次研討會對于雪迪龍而言意義非凡，尤其是與中國科學院上海應用物理研究所共同成立飛行時間二次離子質譜上海應用中心，這不僅是雪迪龍與科研院所的一次重要合作，也是推動國產科學儀器發展的重要一步。雪迪龍作為行業領軍企業，致力于推動國產儀器的研發與產業化，助力半導體檢測技術的自主可控。他希望通過此次研討會，與各位專家共同探討如何推動高端科學儀器發展，特別是在半導體相關設備領域。
揭牌儀式
在開幕致辭之后，舉行了一場意義非凡的揭牌儀式。北京雪迪龍科技股份有限公司與中國科學院上海應用物理研究所攜手共建“飛行時間二次離子質譜上海應用中心”。這一合作標志著產學研深度融合邁出了堅實一步，雙方將共同致力于質譜技術的研發與應用，標志著雪迪龍的飛行時間二次離子質譜（TOF-SIMS）的國產化進程正式啟動。
主題報告
雪迪龍副總工程師張倩暄帶來了題為“基于CRDS等技術的半導體解決方案”的報告。針對半導體生產工藝中遇到痕量成分檢測的難題，雪迪龍推出了基于光腔衰蕩光譜（CRDS）的痕量氣體分析儀、以及用于晶圓表面污染檢測的飛行時間二次離子質譜儀（TOF-SIMS）等，滿足半導體行業對痕量雜質檢測的高靈敏度和高精度要求。
雪迪龍子公司英國KORE公司總經理Stephen James Mullock博士在“TOF-SIMS-An Essential Technique for a Modern Surface Science Laboratory”報告中，介紹了TOF-SIMS在半導體行業、涂層技術和各類材料粘附相關領域表面分析中的重要性，以及在分子信息獲取和高空間分辨率方面的優勢，并分享了KORE公司在TOF-SIMS儀器設計上的創新。
雪迪龍子公司英國KORE公司技術專家Douglas Fraser Reich在“The Applications of TOF-SIMS in Materials Science”報告中，介紹了TOF-SIMS在表面化學、粘附性、多層薄膜、藥物傳遞以及半導體中低水平元素的分布和同位素標記等領域的應用，并通過實際案例展示了TOF-SIMS在工業問題解決中的強大能力。
半導體檢測技術的自主可控是我國半導體產業發展的關鍵，通過加強產學研合作、推動技術創新和人才培養，我國有望在高端科學儀器領域實現突破，為半導體產業的高質量發展提供有力支撐。
半導體痕量成分檢測技術交流會的成功舉辦，為我國半導體檢測技術的自立自強注入了新的活力。雪迪龍期待與各科研單位、專家合作，成為各方開展質譜技術研究的共享平臺。
